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標(biāo)題: 釋放MEMS機(jī)械結(jié)構(gòu)的干法刻蝕技術(shù) [打印本頁(yè)]
作者: qq8426030 時(shí)間: 2013-7-5 10:15
標(biāo)題: 釋放MEMS機(jī)械結(jié)構(gòu)的干法刻蝕技術(shù)
釋放MEMS機(jī)械結(jié)構(gòu)的干法刻蝕技術(shù)
濕法刻蝕是MEMS 器件去除犧牲材料的傳統(tǒng)工藝,總部位于蘇格蘭的Point 35 Microstructures在SEMICON China期間推出了干法刻蝕模塊與氧化物釋放技術(shù),該技術(shù)為MEMS器件設(shè)計(jì)師提供了更多的生產(chǎn)選擇,同時(shí)帶來(lái)了寬泛的制造工藝窗口,從而使良率得到了提升。
SVR-vHF氧化物釋放模塊結(jié)合現(xiàn)有的memsstar SVR-Xe 犧牲性汽相釋放模塊,利用無(wú)水氫氟蒸汽(aHF)來(lái)去除犧牲氧化物,從而釋放MEMS機(jī)械結(jié)構(gòu)。SVR蝕刻方法可以完全地去除犧牲材料而不損害機(jī)械結(jié)構(gòu)或?qū)е吗じ,它同時(shí)提供了高度的可選擇性、可重復(fù)性和均勻性。麥斯艾姆科技,全國(guó)首家P C B(麥斯艾姆知識(shí)課堂)樣板打板,元器件代采購(gòu),及貼片的一站式服務(wù)提供者!SVR保留有干燥的表面,沒(méi)有任何殘留物或水汽,這也省去了包含在濕法工藝中的表面準(zhǔn)備、引入酸、中和以及隨后的干燥等步驟。麥斯艾姆(massembly)貼片知識(shí)課堂,用通俗的文字介紹專(zhuān)業(yè)貼片知識(shí)。
SVR與CMOS工藝和CMOS晶圓設(shè)施是兼容的,這使得MEMS器件可以像傳統(tǒng)的集成電路一樣在相同的設(shè)施和基板上進(jìn)行生產(chǎn),這也將適用于新類(lèi)型的單片MEMS/CMOS 器件。SVR進(jìn)一步的好處包括減少材料的使用和更低的浪費(fèi)。
作者: pcbkey 時(shí)間: 2015-2-3 16:46
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