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ASML 價值 3.5 億歐元的 High-NA EUV 光刻機已獲得 10~20 個訂單,預計到 2028 年可將年產(chǎn)量提高到 20 臺
三星調整戰(zhàn)略,減少下一代High-NA EUV采購量
ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室
三星電子將引進首臺High-NA EUV光刻機EXE:5000
ASML 首席技術官:明年將向客戶交付首臺 High-NA EUV 光刻機,光刻技術或走到盡頭
ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機:體積和卡車相當,每臺售價 3 億美元
ASML回擊High-NA光刻機過于昂貴的指責, 稱新技術是最具成本效益的解決方案
三星認為High-NA EUV有利于邏輯芯片制造,但存儲器或面臨成本問題
ASML High-NA EUV光刻機取得重大突破:成功印刷10納米線寬圖案
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