實驗名稱：高功率納秒固體板條激光器光束凈化實驗
測試設(shè)備：電壓放大器、波前傳感器、傾斜鏡、變形鏡、激光器等。
實驗過程：
混合式自適應(yīng)光束凈化系統(tǒng)實驗裝置圖如圖1所示，其主要由四部分組成：第一部分為高平均功率、高重復(fù)頻率的納秒板條激光器；第二部分為低階像差自動校正系統(tǒng)，此系統(tǒng)中采用四片式的光學結(jié)構(gòu)，是三片式校正系統(tǒng)的優(yōu)化結(jié)果。四片透鏡各自獨立的安裝于間隔調(diào)整系統(tǒng)中，間隔調(diào)整系統(tǒng)根據(jù)H-S測量的像差信息在波前處理器的控制下，自動調(diào)整透鏡的空氣間隔，以滿足大幅值低階像差校正以及光束尺寸匹配的要求；第三部分為AO校正系統(tǒng)，此系統(tǒng)為有波前探測的AO系統(tǒng)，主要由傾斜鏡(TTM)、變形鏡(DM)、電壓放大器、波前處理器以及波前傳感器組成。傾斜鏡用于校正光束的整體傾斜像差，能夠有效釋放DM驅(qū)動器的行程，并且保證出射光束的指向，實驗中采用的TTM行程為±3′。DM用于產(chǎn)生入射波前的共軛波前面型，經(jīng)其反射后出射光束的波前像差能夠得到良好的校正，混合式自適應(yīng)光束凈化系統(tǒng)中采用的DM為59單元連續(xù)面型的變形鏡，驅(qū)動器行程能夠達到±3μm。
混合式光束凈化系統(tǒng)的工作流程圖如圖2所示，首先，H-S1對板條激光器出射光束的初始像差信息進行測量，并反饋給波前處理器，波前處理器驅(qū)動低階像差自動校正系統(tǒng)工作，采用直接校正策略，將四片透鏡移動到滿足低階像差校正以及尺寸匹配的位置，對工作點處的大幅值低階像差成分進行初步校正。之后H-S2對經(jīng)過LOAC系統(tǒng)校正后的波前信息進行測量，并將殘余像差的斜率信息反饋給波前處理器，由波前處理器進行判斷。當殘余像差的波前PV值≥4μm時，驅(qū)動低階像差自動校正系統(tǒng)工作，并采用調(diào)整校正策略解決工作點處像差變動的問題；當殘余像差的波前PV值<4μm時，波前處理器將H-S2反饋的斜率信息，轉(zhuǎn)換為電壓信號，發(fā)送給電壓放大器，使其產(chǎn)生TTM與DM的工作電壓，最終驅(qū)動DM產(chǎn)生相應(yīng)的面型，從而實現(xiàn)殘余像差的精細校正。經(jīng)過上述兩步校正的凈化系統(tǒng)后，出射光束能夠達到近衍射極限的光束質(zhì)量。
實驗結(jié)果：
圖3：經(jīng)低階像差校正的出射光束相關(guān)參數(shù)。(a)光束波前信息(μm)，PV=1.91μm，RMS=0.29μm；(b)遠場強度分布，β=2.86
圖4：經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后各項Legendre多項式的系數(shù)
圖5：校正前后近場光斑強度分布。(a)校正前；(b)校正后
校正前入射光束的近場強度分布如圖(a)所示，其光束尺寸為7mm×35mm，光斑形態(tài)呈寬高比為1：5的長條形。經(jīng)過LOAC系統(tǒng)進行尺寸變換后的近場強度分布如圖(b)所示，其光束尺寸為42mm×44mm，光斑形態(tài)變換為寬高比近似1：1的正方形。經(jīng)其校正后，滿足了后續(xù)應(yīng)用中對光束尺寸匹配的要求。
實驗結(jié)果表明，經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后，初始入射光束中的大幅值低階像差成分和光斑形態(tài)寬高比較小的問題得到了同時的解決。
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