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化學鎳金工藝探討(1)

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樓主
發表于 2013-4-23 14:33:59 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
化學鎳金工藝探討(1)
化學鎳金鍍層集可焊接、可接觸導通,可打線、可散熱等功能于一身,是PCB板面單一處理卻具有多用途的濕制程。目前尚無其它的工藝可與之抗衡。但該制程不好做已時日已久,問題常常出現且不易重工,問題的解決須從源頭開始。對此,本人將工作過程中遇到的品質問題同業界前輩探討一下。
  首先從化學鎳金的反應機理入手。
  一、 化鎳
    鎳鹽:以硫酸鎳為主,也有氯化鎳、乙酸鎳
    還原劑:次磷酸二氫鈉,NaH2PO2
    反應機理:
      說明:次磷酸二氫鈉的次磷酸根離子水解并氧化成磷酸根,同時放出兩個活性氫原子吸附在銅底鈀面上。
         鎳離子在活化鈀面上迅速還原鍍出鎳金屬。
         小部分次磷酸根在催化氫的刺激下,產生磷原子并沉積在鎳層中。
         部分次磷酸根在催化環境下,自己也會氧化并生成氫氣從鎳面上向外冒出。
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沙發
發表于 2013-4-29 09:32:26 | 只看該作者
受教育了!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!

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板凳
發表于 2015-2-4 12:22:25 | 只看該作者
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