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STT-MRAM:系統(tǒng)架構(gòu)全新的非易失性存儲(chǔ)器

發(fā)布時(shí)間:2014-6-17 10:48    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: MRAM , 存儲(chǔ)器
STT-MRAM是指采用了自旋注入磁化反轉(zhuǎn)(spin transfer torque:STT)數(shù)據(jù)擦寫(xiě)技術(shù)的磁存儲(chǔ)器(MRAM)。這種存儲(chǔ)器具有非易失性、運(yùn)行速度快、擦寫(xiě)次數(shù)無(wú)限制等半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的理想性能。不過(guò),目前還不具備可與現(xiàn)有存儲(chǔ)器抗衡的成本競(jìng)爭(zhēng)力。如果今后能夠通過(guò)微細(xì)化來(lái)實(shí)現(xiàn)大容量化等,從而提高成本競(jìng)爭(zhēng)力,就可考慮取代現(xiàn)有存儲(chǔ)器。

STT-MRAM備受期待的應(yīng)用是,通過(guò)替代電子設(shè)備的主存儲(chǔ)器及緩存所使用的DRAM及SRAM,使其具備非易失性,以大幅降低功耗。這種存儲(chǔ)器也許會(huì)改變“存儲(chǔ)器(硬盤及NAND閃存)為非易失性、更高層級(jí)的內(nèi)存(DRAM及SRAM)為易失性”的傳統(tǒng)計(jì)算機(jī)架構(gòu)。

傳統(tǒng)型MRAM方面,美國(guó)飛思卡爾半導(dǎo)體(Freescale Semiconductor)已于2006年開(kāi)始量產(chǎn),并使其在工業(yè)設(shè)備上達(dá)到實(shí)用水平。但這種存儲(chǔ)器存在很難通過(guò)微細(xì)化來(lái)實(shí)現(xiàn)大容量化的課題。原因是采用了向數(shù)據(jù)寫(xiě)入線通入電流并利用在其周圍產(chǎn)生的磁場(chǎng)來(lái)進(jìn)行數(shù)據(jù)擦寫(xiě)的方式。這種方式因?yàn)樵綄?shí)現(xiàn)微細(xì)化,數(shù)據(jù)擦寫(xiě)所需要的電流就會(huì)越大,所以無(wú)法縮小提供擦寫(xiě)電流的晶體管的尺寸。這成了實(shí)現(xiàn)微細(xì)化的瓶頸。


STT-MRAM的工作原理

而STT-MRAM則利用向名為MTJ(magnetoresistive tunnel junction,磁阻隧道結(jié))的存儲(chǔ)元件通入的電流來(lái)擦寫(xiě)數(shù)據(jù)。利用了在電子自旋的力矩作用下使MTJ的磁化方向發(fā)生反轉(zhuǎn)的工作原理。這種方式的優(yōu)勢(shì)在于微細(xì)化程度越高,擦寫(xiě)所需要的電流越小。因此,容易通過(guò)微細(xì)化來(lái)實(shí)現(xiàn)大容量化,有望達(dá)到Gbit級(jí)存儲(chǔ)容量。不過(guò),這種存儲(chǔ)器也存在需要克服的課題,比如元件的特性偏差會(huì)隨著微細(xì)化程度的提高而增大。

其實(shí),STT-MRAM已經(jīng)開(kāi)始實(shí)現(xiàn)商用化。飛思卡爾的MRAM部門獨(dú)立出來(lái)后成立的美國(guó)Everspin Technologies就已經(jīng)向市場(chǎng)投放了這種產(chǎn)品。但目前容量只有64Mbit,要擴(kuò)大市場(chǎng),需要實(shí)現(xiàn)大容量化。

通過(guò)讓緩存具有非易失性來(lái)降低功耗

目前,STT-MRAM正在朝著兩大用途推進(jìn)開(kāi)發(fā)。一個(gè)是取代微處理器等混載的緩存。現(xiàn)行緩存使用易失性存儲(chǔ)器(SRAM),將其換成非易失性STT-MRAM之后,可以高頻率切斷電源。這樣便可大幅降低功耗。

在2014年6月9日于美國(guó)檀香山開(kāi)幕的國(guó)際會(huì)議“2014 Symposia on VLSI Technology and Circuits(以下稱VLSI Symposia)”上,東芝發(fā)布了可實(shí)現(xiàn)業(yè)界最高性能緩存的STT-MRAM。據(jù)該公司介紹,通過(guò)將SRAM換成STT-MRAM,可使在處理器功耗中占大半的緩存功耗降低約60%。

在VLSI Symposia上,日本超低電壓元器件技術(shù)研究聯(lián)盟(LEAP)也發(fā)布了以取代SRAM為目標(biāo)的STT-MRAM技術(shù)。STT-MRAM采用適合進(jìn)行微細(xì)化的構(gòu)造,但只靠蝕刻技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)的話,無(wú)法避免因MTJ尺寸不均而造成的特性偏差。于是,LEAP新開(kāi)發(fā)出了能夠在不僅僅依靠蝕刻技術(shù)的情況下讓MTJ實(shí)現(xiàn)微細(xì)化的工藝技術(shù)。

移動(dòng)設(shè)備用處理器領(lǐng)域的霸主——美國(guó)高通也在大力開(kāi)發(fā)STT-MRAM技術(shù)。該公司在本屆VLSI Symposia上發(fā)表特邀演講,介紹了面向處理器混載用途的STT-MRAM技術(shù)。

還有望取代DRAM


STT-MRAM的另一個(gè)開(kāi)發(fā)方向是DRAM的部分替代用途。為了實(shí)現(xiàn)這一用途,東芝、韓國(guó)三星電子、SK海力士及美國(guó)美光科技等大型存儲(chǔ)器廠商展開(kāi)了激烈的開(kāi)發(fā)競(jìng)爭(zhēng)。

目前東芝正在與SK海力士聯(lián)合開(kāi)發(fā)用于該用途的STT-MRAM。兩公司打算瞄準(zhǔn)SSD的緩存所使用的DRAM的替代用途等,于2015~2016年向市場(chǎng)投放Gbit級(jí)STT-MRAM。目前還在考慮用其代替移動(dòng)設(shè)備用DRAM。

在本屆VLSI Symposia上,三星發(fā)布了用來(lái)取代DRAM的STT-MRAM技術(shù)。該公司公開(kāi)了可使MTJ微細(xì)化至15nm以上的技術(shù)。

來(lái)源:日經(jīng)技術(shù)在線
本文地址:http://www.qingdxww.cn/thread-130110-1-1.html     【打印本頁(yè)】

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