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ams為0.35µm特殊模擬制程推出可互操作的設(shè)計(jì)套件

發(fā)布時(shí)間:2016-3-22 15:27    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: iPDK , IC設(shè)計(jì) , 模擬制程
可互操作的設(shè)計(jì)套件(iPDK)使晶圓代工客戶能使用多種EDA工具設(shè)計(jì)復(fù)雜的芯片

艾邁斯半導(dǎo)體公司(ams AG),今天宣布推出首款應(yīng)用于0.35µm特殊模擬制程的可互操作的設(shè)計(jì)套件(iPDK)。該可互操作的設(shè)計(jì)套件基于OpenAccess數(shù)據(jù)庫(kù),通過使用標(biāo)準(zhǔn)語(yǔ)言以及統(tǒng)一的架構(gòu)實(shí)現(xiàn)多種EDA工具之間的互操作性。

新的iPDK v4.10有效加快了混合信號(hào)領(lǐng)域具備高競(jìng)爭(zhēng)力產(chǎn)品的上市時(shí)間。具備精確仿真模型的綜合設(shè)計(jì)環(huán)境以及基于Python編程語(yǔ)言的參數(shù)化器件布局設(shè)計(jì)(PyCells)提供了經(jīng)過驗(yàn)證的芯片設(shè)計(jì)方式。

艾邁斯半導(dǎo)體新的iPDK v4.10支持高性能的0.35µm制程工藝技術(shù),包括C35(CMOS)、S35(SiGe-BiCMOS)以及H35(高壓CMOS)。艾邁斯半導(dǎo)體的iPDK包括經(jīng)過硅驗(yàn)證的完整的數(shù)字、模擬及RF器件庫(kù)、全套低壓器件(3.3V和5.0V)和多種柵氧化層厚度的高壓器件(10V、20V、50V和120V)。尺寸優(yōu)化了的高密度數(shù)字庫(kù)適用于3.3V和5V的電壓,一系列數(shù)字及模擬IO庫(kù)可用于全部0.35µm制程工藝。iPDK提供多種仿真器的仿真模型、Calibre 、Assura設(shè)計(jì)驗(yàn)證和自動(dòng)器件布局生成器(PyCells) 。因此產(chǎn)品開發(fā)者可以獲得即插即用的工具,用自行選擇的EDA工具實(shí)現(xiàn)一次成型的設(shè)計(jì)。

艾邁斯半導(dǎo)體晶圓代工事業(yè)部總經(jīng)理Markus Wuchse表示:“正在開發(fā)復(fù)雜模擬器件及混合信號(hào)產(chǎn)品的晶圓代工客戶將獲得兩大益處。首先,新的iPDK是基于艾邁斯半導(dǎo)體符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)開發(fā)的設(shè)計(jì)套件,可提供完整的設(shè)計(jì)環(huán)境和經(jīng)過驗(yàn)證的設(shè)計(jì)流程。其次,iPDK可實(shí)現(xiàn)多種EDA工具的互操作性。通過實(shí)現(xiàn)更具靈活性的EDA工具選擇可以拓展我們的晶圓代工服務(wù)及技術(shù)組合,使我們的客戶能立即開展設(shè)計(jì)并集中在芯片設(shè)計(jì)這一核心能力上。”

新的iPDK基于艾邁斯半導(dǎo)體業(yè)界領(lǐng)先的開發(fā)套件hitkit,可用于C35、H35、S35特殊制程工藝。iPDK已經(jīng)過Keysight EEsof EDA Advanced Design System (ADS) 2016.01及Synopsy的Galaxy Custom Designer2014.12的測(cè)試驗(yàn)證。了解更多有關(guān)艾邁斯半導(dǎo)體晶圓代工業(yè)務(wù)iPDK的信息,請(qǐng)瀏覽:http://asic.ams.com/iPDK410

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