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PCB布局前的準(zhǔn)備-經(jīng)驗(yàn)總結(jié)

發(fā)布時(shí)間:2016-7-1 10:10    發(fā)布者:year聽(tīng)
關(guān)鍵詞: pcb , 布局
布局前的準(zhǔn)備:

1         查看捕捉點(diǎn)設(shè)置是否正確.08工藝為0.1,06工藝為0.05,05工藝為0.025.

2         Cell名稱不能以數(shù)字開頭.否則無(wú)法做DRACULA檢查.

3         布局前考慮好出PIN的方向和位置

4         布局前分析電路,完成同一功能的MOS管畫在一起

5         對(duì)兩層金屬走向預(yù)先訂好。一個(gè)圖中柵的走向盡量一致,不要有橫有豎。


布局時(shí)注意:

6         更改原理圖后一定記得check and save

7         完成每個(gè)cell后要?dú)w原點(diǎn)

8         DEVICE的個(gè)數(shù)是否和原理圖一至;各DEVICE的尺寸是否和原理圖一至。一般在拿到原理圖之后,會(huì)對(duì)布局有大概的規(guī)劃,先畫DEVICE,再連線。畫DEVICE后從EXTRACTED中看參數(shù)檢驗(yàn)對(duì)錯(cuò)。

9         如果一個(gè)cell調(diào)用其它c(diǎn)ell,被調(diào)用的cell的vssx,vddx,vssb,vddb如果沒(méi)有和外層cell連起來(lái),要打上PIN,否則通不過(guò)diva檢查.最好在布局低層cell時(shí)就連起來(lái)。

10     盡量用最上層金屬接出PIN。

11     接出去的線拉到cell邊緣,布局時(shí)記得留出走線空間.

12     金屬連線不宜過(guò)長(zhǎng);

13     電容一般最后畫,在空檔處拼湊。

14     小尺寸的mos管孔可以少打一點(diǎn).

15     LABEL標(biāo)識(shí)元件時(shí)不要用y0層,GDS文件不認(rèn)。

16     管子的溝道上不要走線

17     電容上下級(jí)板的電壓注意要均勻分布;電容的長(zhǎng)寬不宜相差過(guò)大。可以多個(gè)電阻并聯(lián).

18     多晶硅不能兩端都打孔連接金屬。

19     一般打孔最少打兩個(gè)

20     薄氧化層是否有對(duì)應(yīng)的植入層

21     金屬連接孔可以嵌在diffusion的孔中間.

22     兩段金屬連接處重疊的地方注意金屬線最小寬度

23     連線接頭處一定要重疊,畫的時(shí)候?qū)⒃搮^(qū)域放大可避免此錯(cuò)誤。

24     擺放各個(gè)小CELL時(shí)注意不要擠得太近,沒(méi)有留出走線空間。最后線只能從DEVICE上跨過(guò)去。

25     Text2,y0層只是用來(lái)做檢查或標(biāo)志用,不用于光刻制造.

26     芯片內(nèi)部的電源線/地線和ESD上的電源線/地線分開接。

27     Pad的pass窗口的尺寸畫成整數(shù).

28     連接Esd電路的線不能斷,如果改變走向不要換金屬層

29     關(guān)于匹配電路,放大電路不需要和下面的電流源匹配。什么是匹配?使需要匹配的管子所處的光刻環(huán)境一樣。 匹配分為橫向,縱向,和中心匹配。

1221為縱向匹配,12為中心匹配(把上方1轉(zhuǎn)到下方1時(shí),上方2也達(dá)到下方2位置)

                 21

中心匹配最佳。

30     尺寸非常小的匹配管子對(duì)匹配畫法要求不嚴(yán)格.4個(gè)以上的匹配管子,局部和整體都匹配的匹配方式最佳.

31     關(guān)于powermos

①     powermos一般接pin,要用足夠?qū)挼慕饘倬接,最好把整個(gè)powermos覆蓋

②     幾種縮小面積的畫法。

32     金屬層dummy要和金屬走向一致,即如果M2橫走,M2的dummy也是橫走向

33     低層cell的pin,label等要整齊.不要?jiǎng)h掉以備后用.



出錯(cuò)檢查:

34     DEVICE的各端是否都有連線;連線是否正確;

35     完成布局檢查時(shí)要查看每個(gè)接線的地方是否都有連線,特別注意VSSX,VDDX

36     查線時(shí)用SHOTS將線高亮顯示,便于找出可以合并或是縮短距離的金屬線。

37     多個(gè)電阻(大于兩根)打上DUMMY。保證每根電阻在光刻時(shí)所處的環(huán)境一樣,最外面的電阻的NPIM層要超出EPOLY2  0.55 um,即兩根電阻間距的一半。

38     無(wú)關(guān)的MOS管的THIN要斷開,不要連在一起

39     并聯(lián)的管子注意漏源合并,不要連錯(cuò)線。一個(gè)管子的源端是另一個(gè)管子的漏端

40     做DRAC檢查時(shí)最上層的pin的名稱用text2標(biāo)識(shí)。Text2的名稱要和該pin的名稱一樣.

41     大CELL不要做DIVA檢查,用DRACULE.

42     消除電阻dummy的lvs報(bào)錯(cuò),把nimp和RPdummy層移到最邊緣的電阻,不要覆蓋dummy



節(jié)省面積的途徑

43     電源線下面可以畫有器件.節(jié)省面積.

44     電阻上面可以走線,畫電阻的區(qū)域可以充分利用。

45     電阻的長(zhǎng)度畫越長(zhǎng)越省面積。

46     走線時(shí)金屬線寬走最小可以節(jié)省面積.并不需要走孔的寬度.

47     做新版本的layout圖時(shí),舊圖保存,不要改動(dòng)或刪除。減小面積時(shí)如果低層CELL的線有與外層CELL相連,可以從更改連線入手,減小走線面積。

48     版圖中面積被device,device的間隔和走線空間分割。減小面積一般從走線空間入手,更改FLOORPLAN    專業(yè)PCB電子單片機(jī)技術(shù)實(shí)訓(xùn),歡迎交流群 3445885702

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