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關(guān)于晶圓介紹以及IGBT晶圓的應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間:2022-7-19 14:00    發(fā)布者:liao775a
關(guān)鍵詞: IGBT晶圓 , 新能源汽車 , 充電樁
晶圓是指制作硅半導(dǎo)體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種,然后慢慢拉出,形成圓柱形的單晶硅。硅晶棒在經(jīng)過(guò)研磨,拋光,切片后,形成硅晶圓片,也就是晶圓。
晶圓的主要加工方式為片加工和批加工,即同時(shí)加工1片或多片晶圓。隨著半導(dǎo)體特征尺寸越來(lái)越小,加工及測(cè)量設(shè)備越來(lái)越先進(jìn),使得晶圓加工出現(xiàn)了新的數(shù)據(jù)特點(diǎn)。同時(shí),特征尺寸的減小,使得晶圓加工時(shí),空氣中的顆粒數(shù)對(duì)晶圓加工后質(zhì)量及可靠性的影響增大,而隨著潔凈的提高,顆粒數(shù)也出現(xiàn)了新的數(shù)據(jù)特點(diǎn)。
隨著集成電路(Integrated circuit,IC)制造技術(shù)的不斷發(fā)展,芯片特征尺寸越來(lái)越小,互連層數(shù)越來(lái)越多,晶圓直徑也不斷增大。要實(shí)現(xiàn)多層布線,晶圓表面必須具有極高的平整度、光滑度和潔凈度,而化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical mechanical polishing, CMP)是目前最有效的晶圓平坦化技術(shù),它與光刻、刻蝕、離子注入、PVD/CVD一起被稱為IC制造最核心的五大關(guān)鍵技術(shù)。
由工采網(wǎng)代理的臺(tái)灣茂矽電子推出的IGBT晶圓 - P81MV022NL0013P是一款1200V40AFS工藝的6IGBT晶圓片;1200V壕溝和現(xiàn)場(chǎng)停止技術(shù);低開關(guān)損耗;正溫度系數(shù);簡(jiǎn)單的平行技術(shù)。廣泛應(yīng)用在中等功率驅(qū)動(dòng)器、1200V光伏、電焊機(jī)、工業(yè)縫紉機(jī)、伺服馬達(dá)等等領(lǐng)域。
IGBT芯片經(jīng)歷了一系列的迭代過(guò)程從PT技術(shù)向NPT技術(shù),再到現(xiàn)在FS技術(shù)的升級(jí),使芯片變薄,降低了熱阻,并提升了TjIEGTCSTBTMPT的引入;持續(xù)降低了Vce,并提高了功率密度;通過(guò)表面金屬及鈍化層優(yōu)化,可滿足車用的高可靠性要求。
FS生產(chǎn)工藝以輕摻雜N-區(qū)熔單晶硅作為起始材料,完成正面元胞制作之后再進(jìn)行背面工藝。在硅片減薄之后,首先在硅片的背面注入磷,形成N+ buffer, 最后注入硼,形成P+ collector, 激活雜質(zhì)后再淀積金屬鋁。
FS相對(duì)于NPT而言,背面增加了N型注入、硅片更薄,硅片在加工過(guò)程中的碎片率上升。更薄的N-區(qū)電阻小,使VCESAT更低;更薄N-層導(dǎo)通時(shí)存儲(chǔ)的過(guò)剩載流子總量少,使關(guān)斷時(shí)間及關(guān)斷損耗減少。
臺(tái)灣茂矽IGBT產(chǎn)品已經(jīng)逐步進(jìn)入新能源汽車、充電樁、電池管理以及光伏逆變等領(lǐng)域,并受到客戶的青睞,ISWEEK工采網(wǎng)擁有一整套完整的解決方案,歡迎致電聯(lián)系133 9280 5792(微信同號(hào))

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