|
來源：大半導體產業網 據佳能中國官微消息，佳能將于2023年2月21日推出半導體制造用晶圓測量機“MS-001”，該產品可以對晶片進行高精度的對準測量。 
（圖源：佳能中國） 據悉，新產品“MS-001”所搭載的調準用示波器安裝有區域傳感器，可以進行多像素測量，降低測量時的噪音。另外，“MS-001”還可以對多個種類的對準標記進行測量。通過采用新開發的調準用示波器光源，新產品可提供的波長范圍比在半導體光刻設備中測量時大1.5倍。 通過引進解決方案平臺“Lithography Plus”，可以將有關半導體光刻機和“MS-001”的運轉情況的相關信息集中到“Lithography Plus”中。通過數據對照監測，可以檢測出晶圓表面對準信息的變化，并在半導體光刻機上進行自動校正。 |
