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佳能發(fā)布FPD曝光設(shè)備“MPAsp-E903T”, 應(yīng)用于高精細(xì)中小型顯示面板制造且解析度達(dá)1.2μm

發(fā)布時(shí)間:2020-11-16 21:38    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 曝光設(shè)備 , 顯示面板 , DUV
佳能※1將于2020年11月下旬正式發(fā)售FPD(Flat Panel Display)曝光設(shè)備新產(chǎn)品“MPAsp-E903T”。該產(chǎn)品可應(yīng)對(duì)第6代玻璃基板尺寸※2,針對(duì)因進(jìn)一步高精細(xì)化而備受期待的新一代中小型顯示面板市場(chǎng),可以實(shí)現(xiàn)1.2μm※3的解析度(L/S※4)。



顯示面板技術(shù)隨著OLED的普及逐漸向高精細(xì)化方向發(fā)展,同時(shí)在智能手機(jī)上的應(yīng)用變得越來(lái)越薄型化、輕量化,而在折疊式應(yīng)用上趨向不斷大型化。另一方面,在VR相關(guān)的顯示產(chǎn)品上小型化的趨勢(shì)也在不斷發(fā)展,呈現(xiàn)多樣化的需求。新產(chǎn)品可以應(yīng)對(duì)新一代顯示面板制造中不可或缺的高精細(xì)化需求,致力于實(shí)現(xiàn)多種面板的生產(chǎn)制造。

■ 實(shí)現(xiàn)FPD曝光設(shè)備中的1.2μm高解析度
在佳能的FPD曝光設(shè)備中,新產(chǎn)品首次※5搭載使用了DUV(深紫外線)※6波長(zhǎng)的新光源。該產(chǎn)品充分利用了鏡面光學(xué)系統(tǒng)特有的優(yōu)點(diǎn),即使波長(zhǎng)變化對(duì)色差影響很小,通過(guò)使用比以往的紫外線波長(zhǎng)更短的新光源以及新開發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了1.2μm解析度的曝光。如果應(yīng)用相移掩模等超解析技術(shù)※7可進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)1.0μm解析度的曝光,助力顯示技術(shù)的高精細(xì)化發(fā)展。

■ 多樣化的曝光模式,用戶可靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線
在搭載新投影光學(xué)系統(tǒng)和新光源系統(tǒng)的基礎(chǔ)上,新產(chǎn)品增加了曝光模式數(shù)量,可匹配合適的曝光條件,實(shí)現(xiàn)多種電路圖的高效曝光。此外,新產(chǎn)品還可以與掩模版尺寸和設(shè)備界面都共通的上一代機(jī)型“MPAsp-E813H”(2014年9月發(fā)布)組合使用,便于用戶靈活地構(gòu)建工藝產(chǎn)線。

■ 兼顧生產(chǎn)性,提升套刻精度
通過(guò)設(shè)備內(nèi)部布局和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)的改進(jìn),實(shí)現(xiàn)了±0.25μm的高套刻精度(重合性精度)。因此,該產(chǎn)品可以有效滿足用戶高精細(xì)面板生產(chǎn)的需求。

※1  為方便讀者理解,本文中佳能可指代:佳能(中國(guó))有限公司,佳能股份有限公司,佳能品牌等
※2  1,500×1,850mm尺寸的玻璃基板,應(yīng)用于以智能手機(jī)為代表的中小型顯示面板的制造中。
※3  1μm為百萬(wàn)分之一米(=1mm 的千分之一)。
※4  Line and Space的簡(jiǎn)稱。Line(線程)和Space(間距)等距離間隔排列電路圖。
※5  針對(duì)FPD曝光設(shè)備。截至2020年11月9日。(佳能調(diào)查)
※6  Deep ultra-violet的簡(jiǎn)稱。與以往的FPD曝光設(shè)備使用的紫外線相比更短波長(zhǎng)的紫外線。
※7  控制光的位相或強(qiáng)度,使曝光設(shè)備解析度提升的技術(shù)。

<主要特點(diǎn)>
1. 實(shí)現(xiàn)FPD曝光設(shè)備中的1.2μm高解析度
        在FPD曝光設(shè)備中,新產(chǎn)品首次搭載使用DUV(深紫外線)波長(zhǎng)的新光源。充分利用了即使波長(zhǎng)變化也對(duì)色差影響很小的鏡面光學(xué)系統(tǒng)所特有的優(yōu)點(diǎn),實(shí)現(xiàn)了比以往所使用的g線(436nm※),h線(405nm)和i線(365nm)更短的290~380nm。由于使用了新光源以及新開發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng),新產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)了1.2μm解析度曝光,可以推進(jìn)顯示面板的進(jìn)一步高精細(xì)化。
        應(yīng)用相移掩模等超解析技術(shù)可實(shí)現(xiàn)1.0μm解析度的曝光。


新DUV光源和新光學(xué)系統(tǒng)示意圖
(外觀從右側(cè)觀看主機(jī)時(shí))


新舊光源波長(zhǎng)分布比較

※1nm(納米)等于10億分之1米。

2. 多樣化的曝光模式,用戶可靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線
在搭載新投影光學(xué)系統(tǒng)和新光源系統(tǒng)的基礎(chǔ)上,新產(chǎn)品增加了曝光模式數(shù)量,可匹配合適的曝光條件,實(shí)現(xiàn)
多種電路圖的高效曝光。采用和上一代機(jī)型“MPAsp-E813H”共通的掩模版尺寸和設(shè)備交互界面,可實(shí)現(xiàn)新舊機(jī)型的組合使用,削減運(yùn)營(yíng)成本,便于用戶靈活構(gòu)建工藝產(chǎn)線。


電路圖形和曝光模式的種類

※1 Line and Space的略稱。Line(線程)和Space(間距)等距離間隔排列電路圖。
※2 Contact Hole的略稱。為形成配線貫穿復(fù)數(shù)層的圓形電路。
※3 σ(sigma)表示,光源系統(tǒng)NA(開口數(shù))和投影系統(tǒng)NA(開口數(shù))的比率。

3. 兼顧生產(chǎn)性,提升套刻精度
通過(guò)設(shè)備內(nèi)部布局和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)的改進(jìn),實(shí)現(xiàn)±0.25μm的高套刻精度(重合性精度)。因此,新產(chǎn)品可以有效地滿足用戶高精細(xì)面板生產(chǎn)的需求。

<新產(chǎn)品介紹視頻>
新產(chǎn)品的技術(shù)介紹視頻在佳能官網(wǎng)上現(xiàn)已發(fā)布。視頻配有針對(duì)產(chǎn)品特點(diǎn)的清晰易懂的解說(shuō)。
URL:http://www.canon.com.cn/video/Video_play/225.html

<中小型顯示面板制造設(shè)備的市場(chǎng)動(dòng)向>
顯示面板技術(shù)隨著OLED的普及逐漸向高精細(xì)化方向發(fā)展,同時(shí)在智能手機(jī)上的應(yīng)用變得越來(lái)越薄型化、輕量化,而在折疊式應(yīng)用上趨向不斷大型化。另一方面,在VR相關(guān)的顯示產(chǎn)品上小型化的趨勢(shì)也在不斷發(fā)展,呈現(xiàn)多樣化的需求。因此,F(xiàn)PD曝光設(shè)備致力于超高精細(xì)和可折疊式等高附加值顯示面板的量產(chǎn)。

<主要產(chǎn)品規(guī)格>
詳細(xì)的產(chǎn)品規(guī)格請(qǐng)參考公司網(wǎng)站。
URL:https://global.canon/en/product/indtech/fpd/

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