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來源：科技直擊 荷蘭的ASML可以說是光刻機領域的巨頭，不僅是唯一一個能夠出貨EUV光刻機的廠商，同時也拿下了中高端DUV光刻機的大部分市場份額。前不久ASML推出的NA EUV光刻機可以用于2nm制程芯片的量產，受到了不少芯片代工企業的追捧。 此前，由于光刻機出口管制的緣故，ASML不僅失去了中國市場，同時出貨量也開始迅速下跌，外界普遍不看好ASML在2024年能夠維持與2023年相當的出貨量。原本ASML以為可以依靠NA EUV光刻機來挽回一下營收，可是從目前的情況來看，佳能最新的納米壓印半導體設備將在今年正式量產，這意味著在光端光刻機領域，ASML也迎來了最大的“競爭對手”。 納米壓印技術是一種新興的芯片制造技術，近些年來也成為了不少半導體設備廠商研發的重點之一。這種技術和傳統的光刻技術相比有著不少的優點，其中最顯著的一項就是成本造價更低，然后分辨率也更高。 如今的EUV光刻機單臺售價都在上億美元，而最新的NA EUV光刻機更是在3億多4億美元，折合人民幣在20億到30億元左右。對于芯片制造廠商來說也是一個不小的負擔，可以說價格十分的昂貴。 從此前佳能傳出的消息來看，單臺DPA-1200NZ2C納米壓印光刻機，能夠實現5nm制程芯片的生產，與同樣生產5nm制程的EUV光刻機相比，成本僅有10%左右。這也意味著售價基本上也就是EUV光刻機的十分之一左右了。 最關鍵的是，成本低不僅僅表現在造價成本上，還表現在使用成本上。光刻機一直都是耗電大戶，可是又不能反復關閉，會導致設備受損。因此在EUV光刻機不適用的時候也只能開著，這也導致耗電量的進一步增加。納米壓設備在使用的時候耗電量也僅有光刻機的10%左右，這其實也就意味著購買一臺EUV光刻機，可以購買10臺相同制程的納米壓印設備了。 目前，納米壓印設備實現了5nm制程，佳能表示將會在2024年進行量產，不過目前的產能有多少還是一個未知數，這款納米壓印設備能否替代EUV光刻機還是要看之后的產能。最值得關注的一點的是，從佳能透露的消息來看，預計到2026年前后該設備可能突破2nm制程，可以用于2nm制程芯片生產。 這也意味著，在先進制程方面納米壓印設備的追趕還是很快的，如果實際表現真的如目前公開的情況來看，那么有可能將會對如今的全球芯片產業格局產生不小的影響。 要知道，納米壓印設備可是佳能自己研發出來的，其中基本上沒有多少美國技術，這也意味著美國是無法限制納米壓印設備出貨的。之后國內廠商很有可能可以購買到這種設備，實現先進芯片的量產也會更加方便一些。 這對于ASML來說顯然不是什么好消息，畢竟如今能夠生產先進芯片的廠商數量并不算多，基本上就是臺積電、三星等幾家，這些廠商都已經擁有了足夠數量的EUV光刻機，這也導致ASML的EUV光刻機出貨數量受到影響。佳能的納米壓印設備不受出口管制影響，顯然能夠比EUV光刻機獲得更多的用戶青睞。 毫無疑問，半導體設備領域已經開始發生變化了，ASML能否繼續守住目前的光刻機巨頭位置估計不太好說了。 |
