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EUV光刻機(jī)破局者出現(xiàn),2024年實(shí)現(xiàn)5nm量產(chǎn),2026年實(shí)現(xiàn)2nm

發(fā)布時(shí)間:2024-3-7 14:57    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: EUV , 光刻機(jī)
來源:科技直擊

荷蘭的ASML可以說是光刻機(jī)領(lǐng)域的巨頭,不僅是唯一一個(gè)能夠出貨EUV光刻機(jī)的廠商,同時(shí)也拿下了中高端DUV光刻機(jī)的大部分市場(chǎng)份額。前不久ASML推出的NA EUV光刻機(jī)可以用于2nm制程芯片的量產(chǎn),受到了不少芯片代工企業(yè)的追捧。

此前,由于光刻機(jī)出口管制的緣故,ASML不僅失去了中國(guó)市場(chǎng),同時(shí)出貨量也開始迅速下跌,外界普遍不看好ASML在2024年能夠維持與2023年相當(dāng)?shù)某鲐浟俊T続SML以為可以依靠NA EUV光刻機(jī)來挽回一下營(yíng)收,可是從目前的情況來看,佳能最新的納米壓印半導(dǎo)體設(shè)備將在今年正式量產(chǎn),這意味著在光端光刻機(jī)領(lǐng)域,ASML也迎來了最大的“競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手”。

納米壓印技術(shù)是一種新興的芯片制造技術(shù),近些年來也成為了不少半導(dǎo)體設(shè)備廠商研發(fā)的重點(diǎn)之一。這種技術(shù)和傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比有著不少的優(yōu)點(diǎn),其中最顯著的一項(xiàng)就是成本造價(jià)更低,然后分辨率也更高。

如今的EUV光刻機(jī)單臺(tái)售價(jià)都在上億美元,而最新的NA EUV光刻機(jī)更是在3億多4億美元,折合人民幣在20億到30億元左右。對(duì)于芯片制造廠商來說也是一個(gè)不小的負(fù)擔(dān),可以說價(jià)格十分的昂貴。

從此前佳能傳出的消息來看,單臺(tái)DPA-1200NZ2C納米壓印光刻機(jī),能夠?qū)崿F(xiàn)5nm制程芯片的生產(chǎn),與同樣生產(chǎn)5nm制程的EUV光刻機(jī)相比,成本僅有10%左右。這也意味著售價(jià)基本上也就是EUV光刻機(jī)的十分之一左右了。

最關(guān)鍵的是,成本低不僅僅表現(xiàn)在造價(jià)成本上,還表現(xiàn)在使用成本上。光刻機(jī)一直都是耗電大戶,可是又不能反復(fù)關(guān)閉,會(huì)導(dǎo)致設(shè)備受損。因此在EUV光刻機(jī)不適用的時(shí)候也只能開著,這也導(dǎo)致耗電量的進(jìn)一步增加。納米壓設(shè)備在使用的時(shí)候耗電量也僅有光刻機(jī)的10%左右,這其實(shí)也就意味著購買一臺(tái)EUV光刻機(jī),可以購買10臺(tái)相同制程的納米壓印設(shè)備了。

目前,納米壓印設(shè)備實(shí)現(xiàn)了5nm制程,佳能表示將會(huì)在2024年進(jìn)行量產(chǎn),不過目前的產(chǎn)能有多少還是一個(gè)未知數(shù),這款納米壓印設(shè)備能否替代EUV光刻機(jī)還是要看之后的產(chǎn)能。最值得關(guān)注的一點(diǎn)的是,從佳能透露的消息來看,預(yù)計(jì)到2026年前后該設(shè)備可能突破2nm制程,可以用于2nm制程芯片生產(chǎn)。

這也意味著,在先進(jìn)制程方面納米壓印設(shè)備的追趕還是很快的,如果實(shí)際表現(xiàn)真的如目前公開的情況來看,那么有可能將會(huì)對(duì)如今的全球芯片產(chǎn)業(yè)格局產(chǎn)生不小的影響。

要知道,納米壓印設(shè)備可是佳能自己研發(fā)出來的,其中基本上沒有多少美國(guó)技術(shù),這也意味著美國(guó)是無法限制納米壓印設(shè)備出貨的。之后國(guó)內(nèi)廠商很有可能可以購買到這種設(shè)備,實(shí)現(xiàn)先進(jìn)芯片的量產(chǎn)也會(huì)更加方便一些。

這對(duì)于ASML來說顯然不是什么好消息,畢竟如今能夠生產(chǎn)先進(jìn)芯片的廠商數(shù)量并不算多,基本上就是臺(tái)積電、三星等幾家,這些廠商都已經(jīng)擁有了足夠數(shù)量的EUV光刻機(jī),這也導(dǎo)致ASML的EUV光刻機(jī)出貨數(shù)量受到影響。佳能的納米壓印設(shè)備不受出口管制影響,顯然能夠比EUV光刻機(jī)獲得更多的用戶青睞。

毫無疑問,半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域已經(jīng)開始發(fā)生變化了,ASML能否繼續(xù)守住目前的光刻機(jī)巨頭位置估計(jì)不太好說了。
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