東進世美肯計劃研發新一代極紫外光刻膠

發布時間：2023-6-27 10:16 發布者：eechina

來源：TechWeb

據外媒報道，在三星電子嘗試重構EUV光刻膠供應鏈的推動下，東進世美肯所研發的極紫外光刻膠，已在去年年底被用于他們的一條量產工藝線。

而相關媒體最新的報道顯示，所研發的極紫外光刻膠已進入三星電子量產線的東進世美肯，也在準備為下一代的極紫外光刻機，也就是高數值孔徑的極紫外光刻機（high-NA EUV）研發光刻膠。

相關媒體在報道中表示，東進世美肯研發高數值孔徑極紫外光刻機投產后所需的光刻膠，是為了滿足阿斯麥這一類極紫外光刻機大量投產之后的需求。

阿斯麥高數值孔徑的極紫外光刻機，是他們在推出TWINSCAN NXE:3400C、TWINSCAN NXE:3600D等多個型號的極紫外光刻機之后，所研發的新一代產品，將沿用EXE系列的命名，已有TWINSCAN EXE:5000和TWINSCAN EXE:5200兩個型號。

阿斯麥高數值孔徑的極紫外光刻機，數值孔徑將由0.33增至0.55，用于2nm及以下的制程工藝，首臺交由客戶用于制程工藝研發的產品，計劃在今年年底出貨，用于大規模生產的，預計2025年開始在客戶的工廠全面投入運營。

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